做光譜分析的您，是不是也常被這些難題困住？譜線展寬模糊，無法區分波長極近的信號；雜散光干擾嚴重，微弱信號根本測不到；成像變形失真，定量分析誤差居高不下……這些問題的核心瓶頸，正是光譜儀難以規避的光學像差。

深耕光譜領域20余載的卓立漢光，帶著全新解決方案來了 ——Omni-500S系列500mm焦距影像校正光譜儀新品上市，以多項針對性升級，用“小改動"實現性能的 “大跨越"，重新定義光譜分析的精度上限。

20多年技術沉淀

每一步都在創新突破

從第一款國產通用型三光柵光譜儀，到全焦面影像校正光譜儀的迭代，卓立漢光始終走在國產光譜技術的創新道路上：

2000 年，公司首*通用型三光柵光譜儀實現量產。

2005 年，推出 Omni-λ 譜王系列，同步研發雙級聯、三級聯光譜儀。

2012 年，Omni-λ-i 影像譜王系列問世，性能接軌國際高*產品。

2015 年，第二代影像譜王發布，雙入口結構進一步提升應用性能。

2024-2025 年，陸續推出 HiperS-320i、Omni-300S、Omni-750S 系列，影像質量與分辨率實現跨越式提升。

2026 年，Omni-S 系列再添新成員，Omni-500S 影像校正光譜儀正式亮相，為光譜分析帶來全新可能。

七大核心升級

直擊光譜分析核心痛點

1. 多曲面影像校正技術，攻克像差行業難題

作為本次升級的核心亮點，Omni-500S 搭載的多曲面影像校正技術，可有效校正像散、彗差等多種光學像差，全面優化系統分辨率、對比度與信噪比。

對比實驗顯示，經校正后的譜線更窄更銳利，半高全寬（FWHM）顯著降低，可輕松分辨波長差異更小的光譜細節；光纖束成像清晰無拖尾，從根源上降低定量分析的誤差。

2. 一體化硬模鑄造機身，穩定性拉滿

儀器箱體采用硬模鑄造一體成型工藝，抗拉強度、屈服強度等機械性能全面升級，可極大提升光譜儀的長期運行穩定性，哪怕在復雜的實驗與工業環境中，也能保持性能穩定不漂移。

3. 光路與結構雙優化，效率與便利性雙提升

優化后的光路設計，讓儀器收光效率提升15%，哪怕是極微弱的光譜信號，也能實現精準捕捉；

輕量化結構設計讓整機減重約10%，安裝、移動更靈活，大幅提升實驗室場景的使用便利性。

4. 專屬雜散光抑制設計，保障光譜純凈度

針對傳統光譜儀紫外波段光柵多次衍射產生的雜散光難題，Omni-500S采用非對稱光路結構，結合專屬光路優化設計，徹*消除該類雜散光，大幅提升系統信噪比，保證輸出光譜的純凈度，讓弱信號探測不再困難。

5. 專*多光柵自動對焦技術，全波段性能在線

儀器搭載擁有自主發明專*（專*號：ZL 202310878354.5）的自動對焦系統，可獨立精準控制各光柵的焦距，切換光柵時自動匹配最佳性能，同時適配多種不同焦深的相機，讓光譜儀在全波段范圍都能保持最佳的分辨率與成像質量，完*滿足復雜的多場景實驗需求。

6. 全場景適配能力，一臺覆蓋多種測試需求

儀器的出入口可靈活適配多種規格的光源、探測器、相機、光纖等外部設備，同時配套豐富的可選配件，無需額外定制改造，一臺設備即可覆蓋多種測試場景，大幅降低用戶的配套成本。

7. 智能化配套軟件，讓光譜測試簡單高效

配套軟件搭載智能化分析與控制平臺，具備*大的智能數據處理能力，支持實時譜圖顯示、數據擬合分析、多譜圖對比、測試數據自動保存，界面友好、操作簡單，大幅簡化測試流程，降低儀器使用門檻，讓新手也能快速上手完成專業光譜測試。

全領域覆蓋解鎖多元應用場景

憑借全面升級的性能與靈活的適配能力，Omni-500S光譜儀可廣泛覆蓋科研與工業的多元場景：

• 科研領域：拉曼光譜、熒光光譜、等離子體光譜測量、角分辨光譜、多通道光譜檢測、微生物光譜識別等

• 工業領域：透射 / 反射光譜測量、鍍膜膜厚監測、燃燒診斷、激光誘導擊穿光譜、光電探測、可調光源配套測試等

從第一款光譜儀到全新 Omni-500S 系列，卓立漢光始終以研發創新為核心，深耕光譜技術領域，不斷突破國產高*科學儀器的性能邊界。未來，卓立漢光也將持續以技術創新為驅動力，為廣大科研與工業用戶提供更優質、更可靠的光譜儀器解決方案，助力中國高*科學儀器的自主可控與創新發展。